Ideia principalOs equipamentos avançados de gravação a seco da Yitang avançam da produção em massa e da validação pelos clientes para um aumento dos novos pedidos, enquanto a ampliação de escala de outros produtos novos depende do progresso da validação pelos clientes.
Como mudaram os pedidos de equipamentos de gravação a seco?
- Na apresentação de resultados de 3 de novembro, a companhia afirmou que seu equipamento avançado de gravação a seco de nova geração RENA-E havia sido adotado e entrado em produção em massa em vários clientes de fabricação de wafers em etapas iniciais, incluindo circuitos integrados de memória, lógica e processos especializados. Os novos pedidos começaram a aumentar gradualmente.
- A adoção e a validação do equipamento avançam sem problemas em vários novos clientes nacionais; equipamentos de gravação a seco do mesmo tipo também receberam, pela primeira vez, um pedido de um cliente europeu. A produção em massa em clientes existentes, a validação em novos clientes e os pedidos de uma nova região constituem diferentes fontes de crescimento dos pedidos.
Quais etapas faltam para ampliar a escala dos novos produtos?
- A companhia está desenvolvendo novos equipamentos de gravação de metais, gravação e deposição na borda de wafers e gravação de alta seletividade, além de uma plataforma de integração de processos multicâmara.
- Alguns projetos concluíram o desenvolvimento dos produtos e entraram na fase de validação pelos clientes nos três primeiros trimestres de 2026. A companhia afirmou que esses produtos terão sua escala ampliada gradualmente após serem aprovados, sucessivamente, na validação dos clientes; portanto, essa validação continua sendo uma etapa entre a conclusão do desenvolvimento e a obtenção de pedidos em volume.
Que base as linhas existentes de produtos maduros oferecem?
- Analistas da Soochow Securities consideram que a companhia formou três grandes categorias de linhas de equipamentos maduros: remoção de fotorresiste a seco, processamento térmico rápido e gravação a seco e tratamento de superfície por plasma.
- Entre elas, a série Optima de equipamentos avançados de nova geração para remoção de fotorresiste a seco foi adotada e entrou em produção em massa em vários clientes nas áreas de fabricação de wafers em etapas iniciais e encapsulamento avançado. A aplicação dos produtos existentes em produção em massa e a validação pelos clientes dos novos projetos de equipamentos estão em estágios diferentes.
